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问题:

题目:ZnO粉体的水热合成及其形貌变化

关键词:水热法,ZnO粉体,形貌,机理,稀磁半导体

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  参考解析


ZnO作为一种直接禁带半导体材料,具有压电,光电和掺杂过渡族元素后表现出的磁性。由于其禁带宽度为3.37eV和激子结合能为60eV,作为氮化镓的良好的代替品,有望成为新一代的发光材料。在发光二极管,和激光器上有很大的应用前景,成为这几年的研究热点。在当前很多制备ZnO的方法中水热法作为一种工艺简单,廉价的方法被广泛的用于制备ZnO粉体。但用水热法制备ZnO的实验中影响实验结果的因素多,实验的规律性差。对于水热法实验生成的具有花状结构的ZnO生成机理的研究报告并不是很多。对于ZnO的稀磁性能的研究,用Co掺杂ZnO的系统研究也鲜有报告。本文用水热法制备ZnO,针对以上所讲的三个方面,主要的研究内容和结果如下:
第一:在不同的反应条件下进行实验,研究不同反应条件对生成的ZnO形貌的影响,分别改变温度,时间,反应的pH值,和在实验中加入不同的添加物。反应得到的结论是:随着时间的增大生成的ZnO颗粒越来越大,结晶度越完整。而在温度逐渐升高的时候,ZnO是由颗粒状的小晶体到棒状的ZnO晶体再到具有三维结构的ZnO纳米花结构的一个变化过程。pH值对于ZnO形貌的影响是随着pH值的增大颗粒尺寸明显减小。花状结构出现在pH为9和9.5时。不同的添加物对形貌也有很大的影响。
第二:花状结构ZnO的生长过程和生成机理的初步的研究,并对其发光性能做了探讨。生成的过程是以ZnO棒表面的缺损处为节点,形成二维的十字状结构,继而再以十字交叉点为节点,生成三维的ZnO结构。ZnO的PL光谱分析结果表明随着pH的增大,400nm附近的本征发光峰相对强度逐渐变弱,由深能级缺陷引起的600nm附近发光峰相对强度逐渐变大,并且出现大范围的蓝移现象。对退火前后ZnO的PL谱的研究表明,退火能有效的减少ZnO中的缺陷浓度。
第三:用过度族元素Co掺杂制备ZnO的稀磁半导体。表明在普通的水热法中,Co在ZnO体系中的最大掺杂浓度为5%,同时还研究了不同的水热环境对Co掺杂浓度的影响,研究结果表明随着pH值的增大,Co在ZnO中的掺杂浓度会稍有提高。Co掺杂使得ZnO的各向异性减弱,出现的较短ZnO纳米棒。通过磁滞回线的测试,得到了Co掺杂ZnO在室温下具有铁磁性。

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