题目：紫外光对有机修饰硅氧烷Sol-Gel过程的影响研究

本文以甲基丙烯酸丙酯三甲氧基硅烷、辛基三甲氧基硅烷和丙基三甲氧基硅烷三种典型的有机硅氧烷作为前驱体，利用荧光探针技术、ATR-IR、1H NMR、13C NMR以及29Si NMR等手段对比性地在线追踪了三种前驱体在紫外光照与非光照条件下的水解-缩合反应过程。研究结果表明：紫外光辐射对有机硅氧烷水解-缩合反应的促进作用主要发生在无机端。其主要特征是：紫外光辐射可促进前驱体水解反应更完全，形成易于交联的相关物种，最终导致有机硅氧烷体系胶凝。研究了紫外光辐射对有机硅氧烷水解-缩合反应的影响与自由基间的关联性。即紫外光辐射和自由基对于硅氧烷Sol-Gel过程的作用具有一定的等效性。本研究工作为紫外光辐射促进有机修饰硅氧烷Sol-Gel过程的机理探讨提供了极具价值的信息。